光學膜厚儀的薄膜光譜反射系統，可以很簡單快速地獲得薄膜的厚度及n&k，采用r-θ極坐標移動平臺，可以在幾秒鐘的時間內快速的定位所需測試的點并測試厚度，可隨意選擇一種或極坐標形、或方形、或線性的圖形模式，也可以編輯自己需要的測試點。針對不同的晶圓尺寸，盒對盒系統可以很容易的自動轉換，匹配當前盒子的尺寸。49點的分布圖測量只需耗時約45秒。
光學膜厚儀的主要特點：
*基片折射率和消光系數測量；
*薄膜厚度測量，平均值和標準偏差分析；
*薄膜折射率和消光系數測量；
*適用于不用材質和厚度的薄膜、涂層和基片；
*測試數據輸出和加載；
*直接Patterned或特征機構的試樣測試；
*可用于實時在線薄膜厚度、折射率監測；
*波長范圍可選；
*系統配備*的光學常數庫和材料數據庫，便于測試和數據分析。
光學膜厚儀廣泛應用于各種薄膜、涂層光學常數和厚度的測量，設備分為在線和離線兩種工作模式，操作便捷，幾秒鐘內即可完成測量和數據分析，USB 連接計算機控制；
薄膜表面或界面的反射光會與從基底的反射光相干涉，干涉的發生與膜厚及折光系數等有關，因此可通過計算得到薄膜的厚度。光干涉法是一種無損、且快速的光學薄膜厚度測量技術，我們的薄膜測量系統采用光干涉原理測量薄膜厚度。
在線咨詢
返回頂部